反应烧结碳化硅陶瓷
  • 【48812】碳化硅原始晶锭出产厂商测验SiC碳面平整度
来源:反应烧结碳化硅陶瓷    发布时间:2024-04-25 19:19:53
产品详情

  姑苏恒迈瑞公司为国内外客户成长供给碳化硅原始晶锭,也能够称之为碳化硅坯料,可用于

  用于测验碳化硅C面弧度端面平整度及缺点等。4英寸至6英寸导电型碳化硅原始晶锭或半绝缘型碳化硅毛坯料

  姑苏恒迈瑞公司为国内外客户成长供给碳化硅原始晶锭,也能够称之为碳化硅坯料,可用于

  用于测验碳化硅C面弧度端面平整度及缺点等。4英寸至6英寸导电型碳化硅原始晶锭或半绝缘型碳化硅毛坯料

  碳化硅主要是选用物理气相输运法(PVT,也称为改进的Lely法或籽晶提高法),高温化学气相堆积法(HTCVD)作为弥补。中心过程大致分为:

  SiC资料具有宽禁带、高击穿电场、高热导率、高电子迁移率以及抗辐射等特性,SiC基的SBD以及MOSFET更适合在高频、高温、高压、高功率以及耐辐射的环境中作业。在功率等级相同的条件下,选用SiC器材可满意功率密度更高、规划更紧凑的需求。

  主营产品:硅基氮化镓外延片,碳化硅基GaN外延片,碳化硅晶棒,碳化硅SiC切割片,碳化硅衬底晶片,碳化硅同质外延片,氮化镓衬底片